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真空爐加熱元件首要分為：電阻絲，硅碳棒，鉬絲鉬桿，硅鉬棒，石墨，感應線圈等。
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真空爐的溫控體系首要由熱電偶(測溫)以及溫度操控器(控溫)組成。首要分為 PID 可編程操控，觸摸屏操控，以及 PLC 全自動操控。
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真空爐石墨件加熱的結構相對比較簡單，且使用本錢較低。
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真空爐膛首要分為：不銹鋼爐膛，陶瓷纖維爐膛，鉬箔爐膛，石墨爐膛
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真空爐石墨件加熱的加熱均勻性較為優異，可以實現對樣品的均勻加熱。
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真空爐由爐膛、加熱元件，溫控體系、真空體系、水冷體系，密封爐殼等組成。
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使爐膛內壓強小于一個標準大氣壓，爐膛內空間到達真空狀況，然后再進行相關物件產品的加熱設備。
