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溫度改變過快。在真空爐加熱冷卻過程中，溫度改變過快會(huì)導(dǎo)致爐襯發(fā)生內(nèi)部應(yīng)力，然后導(dǎo)致爐襯裂裂。

假如真空爐加熱不了，首先需求檢查電源是否正常。或許是因?yàn)殡娫淳€路毛病、保險(xiǎn)絲損壞或電源開關(guān)未打開等原因造成的。假如發(fā)現(xiàn)電源確實(shí)存在問題，應(yīng)及時(shí)修正并替換損壞的零件。

真空爐石墨加熱管燒壞是加熱管不加熱的主要原因之一。加熱管因電流過大、運(yùn)用時(shí)間過長(zhǎng)等原因會(huì)出現(xiàn)老化、損壞。此刻需求替換新的加熱管。

單晶爐是一種用于生產(chǎn)高質(zhì)量單晶資料的設(shè)備，而石墨件是單晶爐中不可或缺的部件，其主要作用是連接爐體和加熱電極，同時(shí)具有多種杰出的物理和化學(xué)性質(zhì)。但是，在單晶爐的運(yùn)用進(jìn)程中，單晶爐中石墨件簡(jiǎn)單呈現(xiàn)腐蝕現(xiàn)象，影響爐體的正常運(yùn)轉(zhuǎn)。

真空爐加熱石墨管上的熱解涂層可有用防止石墨管的氧化，然后延伸石墨管的使用壽命。一起，涂層也可防止樣品侵入石墨管然后進(jìn)步靈敏度和重復(fù)性。石墨管被電流加熱，電流的巨細(xì)由可編程操控電路操控，然后在加熱過程中可按一系列升溫方法對(duì)石墨管中的樣品進(jìn)行加熱，到達(dá)除掉溶劑和大多數(shù)基體組份然后將樣品原子化發(fā)生基態(tài)自由原子。分子的分化情況取決于原子化溫度、加熱速率及熱石墨管 管壁周圍環(huán)境等因素。

還有一個(gè)原因就是假如單晶爐石墨加熱器吸硅嚴(yán)峻也可能形成斷裂，主要是因?yàn)楣韬褪呐蛎浵禂?shù)關(guān)系。

基于石墨資料的許多優(yōu)秀特性，真空爐中常運(yùn)用真空爐石墨加熱元件，本文詳細(xì)將真空熱處理爐內(nèi)石墨加熱元件的各種結(jié)構(gòu)方法，以及設(shè)計(jì)、運(yùn)用中的一些注意事項(xiàng)，為石墨加熱元件在真空爐職業(yè)的推行運(yùn)用供給參閱。